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陶氏半导体级膜元件SG30-400/34i

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  陶氏半导体膜元件SG30-400/34i

  拥有先进的超纯水规格和分析测量能力,以满足微处理器,半导体和其他硅基设备制造商的严格需求。

  陶™陶氏FILMTEC™SG30-400/34 我扭转反渗透元素已开发,以满足要求更高的整体排斥,较高的低分子量有机化合物和二氧化硅和加速TOC冲洗下来的文件拒绝。 这些高表面积的元素可以用更少的元素和应用工作压力较低的系统设计,从而优化了资本成本的摊销,同时降低运营成本。

  SG30-400/34 我和我的LEC™联锁端盖,降低系统运营成本,降低风险和O型密封圈泄漏,导致水质较差的小颗粒的一代,并消除了润滑油的需要。LEC联锁端盖的更多信息(120KB PDF)。

  SG30-400/34 我的目的主要是利用更高的工作压力,在传统的超纯水系统设计的抛光。 它采用了34 MIL间隔,以减轻整个船只的污染和压降的影响,增加清洗和加强清洗成效之间的运行时间。

标称活性表面积 
英尺2(M 2) 
产流量 
GPD(M 3 / D) 
稳定脱盐 
(%) 
 400(37)   10200(38.6)  99.5

 

  1. 纯净水流量基于以下条件:225磅(1.55兆帕), - 77°F(25°C)和15%的回收率。

  2. 个别元素的流率可能会有所不同,但将下面显示的值是不超过15%。

  3. 作为正在实施的改善,产品规格可能会有所不同。

  4. 典型的稳定脱盐率(以Cl - )的单个元素在百万分之二千氯化钠的试验条件下,225磅(1.55兆帕),77℉(25℃),pH值8和15%的回收率为99.5%。 在较低的TDS(<5 PPM),离子排斥根据离子强度,pH值和离子物种减少。


 

半导体级元件

 

8.0" x 40" 4.0" x 40" 2.5" x 40" 其他
 SG30LE-440i      
 SG30-400/34i      
 SG30LE-400      


 

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